Laserové svařování
Difrakční optický prvek
Laserová svařovací hlava
Absorpční laserová spektroskopie
Opticky zachycená nanočástice
Elektronová svářečka
Speciální elektronika
Mikroskop pro pomalé elektrony
Identifikace biomasy Ramanovou spektroskopií
Magnetická rezonance
Holografická endoskopie optickým vláknem

Publications

Export 1 results:

Filtry: Autor je Thomas Arnold [Clear All Filters]

2025

Heinke R, Šilhan L, Ehrhardt M, Lorenz P, Zajadacz J, Bauer J, Arnold T, Šerý M, Zimmer K. Stability of masking materials for pattern transfer of lithographic masks into fused silica by atmospheric pressure plasma jet etching. Micro and Nano Engineering, 28, 100309 (2025).