Publikace týmu z Leibniz-Institutu s účastí kolegů z UPT v časopise Micro and Nano Engineering

Významný vědecký článek s názvem „Innovative microstructuring with atmospheric pressure plasma jet: Novel and sustainable processing of optical surfaces“ byl nedávno publikován v časopise Micro and Nano Engineering. V rámci spolupráce se zahraničním partnerem se na výzkumu podíleli i dva naši kolegové dr. Mojmír Šerý, vedoucí vědecké skupiny Aplikovaná a integrovaná fotonika, oddělení Mikrofotonika  a jeho doktorand Ing.  Lukáš Šilhan

Studie představuje inovativní metodu mikrostrukturování optických povrchů pomocí plazmového pera za atmosférického tlaku (APPJ), která umožňuje přenos mikrostruktur do křemenného skla bez nutnosti použití vakuových systémů. Tato technologie má potenciál výrazně snížit náklady a dobu výroby optických prvků a zároveň přispět k udržitelnějšímu zpracování bez použití agresivních chemikálií.

V rámci projektu se podařilo úspěšně přenést vzory z běžně dostupných polymerních masek do tvrdých materiálů, jako je právě křemenné sklo. Výsledkem byla difrakční mřížka s periodou 15 µm, hloubkou 230 nm a mimořádně nízkou drsností povrchu pod 2 nm RMS. Studie zároveň přinesla důležité poznatky o selektivitě leptání, kvalitě povrchu a chemických změnách.

Tato metoda otevírá nové možnosti pro efektivní, ekologickou a cenově dostupnou výrobu mikrooptických prvků v oblasti fotoniky.

Gratulujeme a přejeme mnoho dalších úspěchů ve výzkumu!

Odkaz na publikaci: Stability of masking materials for pattern transfer of lithographic masks into fused silica by atmospheric pressure plasma jet etching
R. Heinke, L. Šilhan, M. Ehrhardt, P. Lorenz, J. Zajadacz, J. Bauer, T. Arnold, M. Šery, K. Zimmer
Micro and Nano Engineering, Volume 28 (2025), Article 100309
DOI: 10.1016/j.mne.2025.100309

 

Stability of masking materials for pattern transfer of lithographic masks into fused silica by atmospheric pressure plasma jet etching