Konjugované křemíkové polymery pro rezisty v nanotechnologiích

5011

Konjugované křemíkové polymery pro rezisty v nanotechnologiích

Klasická optická a elektronová litografie zůstávají hlavní technologie v polovodičovém průmyslu ve výrobě i při současné šířce čáry 100 nm. Nová technologie nanotisku do polymerů již pracuje s rozlišením 10 nm. Positivní rezisty pro pokročilou výrobu masek s elektronovými vysokoenergetickými svazky tak musí prodělat zásadní změny. Organické křemíkové nanostrukturní polymerní materiály představují novou skupinu elektronicky aktivních materiálů. Cílem projektu je výzkum procesu vedoucích k formování metastabilních stavů v organických křemíkových polymerech jako jsou slabé vazby, jejich konverze na přerušené vazby a ovlivnění těchto procesů jak výběrem materiálů, tak i aktivních přísad do aktivních křemíkových polymerů. Metodiky, uplatněné v projektu, budou fotoelektronové spektroskopie, efúsní spektroskopie a foto a katodoluminiscence, podporované kvantově chemickými výpočty pro pochopení mikrofyzikálních jevů vedoucích k metastabilitě a degradaci.
Řešitel v ÚPT: 
RNDr. Petr Schauer, CSc.
Řešitel: 
Josef Zemek - FYZIKÁLNÍ ÚSTAV AV ČR
Spoluřešitelé: 

Petr Schauer - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v.v.i.

Agentura: 
GA AV ČR
Reg. č.: 
IAA100100622
Datum od: 
1. 1. 2006
Datum do: 
31. 12. 2009