Vytváření a charakterizace nanostruktur rentgenovými lasery

6421

Vytváření a charakterizace nanostruktur rentgenovými lasery

Rentgenové/XUV lasery různých typů, emitujících ve spektrálním oboru 10-50 nm, budou využity k vytváření a zkoumání nanometrových struktur na površích pevných látek.
(a) Budou implementovány nové kompaktní vysokorepetiční zdroje koherentního krátkovlnného záření, s využitím nynějších zkušeností s unikátním laserem na vlnové délce 21 nm, provozovaným uchazečem tohoto projektu. To umožní zkoumat interakci XUV/rtg záření s pevnou látkou v oblastech dosud neprozkoumaných kombinací energií fotonů, délek pulsů, fluencí a intenzit.
(b) Budou nalezeny podmínky, při nichž dochází k efektivní ablaci materiálu ozařovaného rtg/XUV lasery, při jeho minimálním tepelném poškození.
(c) Budou zkoumány a optimalizovány podmínky pro přímé nanostrukturování materiálů, a to jak interferometrické, tak pomocí masky.
(d) Interferometrické, reflektometrické a holografické techniky s XUV/rtg lasery umožní diagnostikovat trvalé i přechodné nanometrové změny na površích a v tenkých vrstvách vybraných materiálů.
Řešitel v ÚPT: 
Ing. Jaroslav Sobota, CSc.
Řešitel: 
Bedřich Rus - FYZIKÁLNÍ ÚSTAV AV ČR
Spoluřešitelé: 

Ladislav Pína - Reflex, s. r. o.
Jaroslav Kuba - FBMI ČVUT v Praze
Karel Koláček - Ústav fyziky plazmatu AV ČR
Jaroslav Sobota - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v.v.i.

Agentura: 
AV ČR
Reg. č.: 
KAN300100702
Datum od: 
1. 1. 2007
Datum do: 
31. 12. 2011