Rastrovací mikroskopie velmi pomalými elektrony v ultravysokém vakuu

5520

Rastrovací mikroskopie velmi pomalými elektrony v ultravysokém vakuu

Projekt je zaměřen na vývoj přístrojového vybavení a metodologie pro rastrovací mikroskopii velmi pomalými elektrony v ultravysokém vakuu a na její aplikaci v oblasti výzkumu materiálů, především v diagnostice polovodičových materiálů a struktur. Předkládaný návrh je založen na spolupráci, která začala v r. 1994. Hlavním cílem navrhovaného projektu je zvýšení rozlišení obrazu získaného pomocí mini-tubusu SLEEM tak, aby bylo dosaženo 30-40nm při energii dopadajících elektronů 10 eV ze současné hodnoty 800nm. K realizaci tohoto cíle bude zapotřebí znovu navrhnout několik důležitých částí tubusu, znovu posoudit metody a přípravky používané k seřízení tubusu a vypořádat se se snížením intenzity signálu v důsledku zlepšeného rozlišení. Dále budou provedeny základní experimenty demonstrující možnosti zobrazit při vysokém rozlišení kontrast daný odrazivostí velmi pomalých elektronů. Tento kontrast, dosahovaný při energiích pod 20-30eV, je přímo úměrný lokální hustotě stavů ve směru dopadu elektronů, takže je možné mapovat po povrchu vzorku strukturu energiových pásů. Při těchto experimentech bude uvedeno do provozu a ověřeno zařízení pro detekci v šesti kanálech s úhlovým rozlišením. Tato zobrazovací metoda, která není v elektronové mikroskopii ještě k dispozici, je velmi slibná pro zkoumání polovodičů a polovodičových prvků.
Řešitel v ÚPT: 
RNDr. Luděk Frank, DrSc.
Řešitel: 
Mohamed M El Gomati - UNIVERSITA V YORKU
Spoluřešitelé: 

Luděk Frank - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v.v.i.

Agentura: 
NATO
Reg. č.: 
PST.CLG.97082
Datum od: 
1. 1. 2000
Datum do: 
31. 12. 2000