Elektronová litografie pro přípravu nanostruktur

6231

Elektronová litografie pro přípravu nanostruktur

Stávající systém elektronového litografu BS 600 má mezní rozlišení 0.1 mikronu. V poslední době se objevila řada požadavků na realizaci struktur s lepším rozlišením.Cílem projektu je studium realizace struktur s rozlišením lepším než 100 nanometrů. Při řešení je nutno brát v úvahu jednak úpravu vlastního litografického systému a jednak technologické požadavky vyplývající z realizace struktur s tímto velkým rozlišením.Výsledkem projektu by měly být postupy a techniky pro realizaci nanostruktur a vzorové struktury připravené v tomto rozlišení.
Řešitel v ÚPT: 
doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D.
Řešitel: 
Vladimír Kolařík - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v.v.i.
Agentura: 
GA ČR
Reg. č.: 
GA102/05/2325
Datum od: 
1. 1. 2005
Datum do: 
31. 12. 2006