Tenké vrstvy

Skupina Tenkých vrstev vychází z dlouholeté zkušenosti v oboru plazmochemické přípravy tenkých vrstev a testování mechanických vlastností materiálů. Skupina se začala formovat v 80. letech 20. století s rostoucí potřebou povrchových úprav a tvorby tenkých funkčních vrstev do studených katod plynových laserů a otěruvzdorných komponent litografických systémů. Postupně se se zaváděním dalších depozičních technologií rozšířilo i portfolio naprašovaných vrstev – od vrstev v řádu nanometrů s precizními parametry pro užití v rentgenové optice, až po několika mikrometrové otěruvzdorné tvrdé ochranné vrstvy pro strojírenství. Zejména pro potřeby těchto vrstev byla od 2. poloviny 90. let vyvíjena unikátní metoda charakterizace vrstev dynamickým impaktním testerem.

V současné době disponuje skupina Tenkých vrstev dvěma depozičními aparaturami pro magnetronové naprašování a jednou pomocnou aparaturou pro napařování. K dispozici jsou více než tři desítky kovových i keramických terčů – materiálů, které jsou naprašovány. Při depozičním procesu lze navíc použít reaktivní plyn, například dusík nebo kyslík, což portfolio naprašovaných materiálů dále rozšiřuje. Aktuální výzkum a vývoj se zaměřuje zejména na depozici tenkých vrstev pro aplikace v optice, elektronice, elektronové mikroskopii a polovodičových technologiích.

Řadu metod pro charakterizaci parametrů a vlastností tenkých vrstev doplňuje stále rozvíjená metoda dynamického impaktního testování. Tato metoda, spočívající v opakovaném impaktování povrchu vzorku s definovanými parametry testovacího procesu, byla postupně rozšířena z tenkých PVD vrstev na různé typy materiálů, včetně objemových vzorků bez povrchových úprav. Současný vývoj metody odráží rovněž potřeby testování nových materiálů z aditivní výroby (např. 3D-tištěné kovy, studený nástřik) a dalších technologií.

Zkušenosti skupiny se uplatňují při řešení vědeckých projektů i při výzkumné spolupráci s akademickými i komerčními subjekty.